Melec的电源脉冲发生器可实现多种用途,凭借现有的直流电源配上Melec的电源脉冲发生器即可实现单极脉冲、双极脉冲、偏压以及HiPIMS高能脉冲电源等功能。
NiCr靶使用直流及HiPIMS晶体结构对比
以HiPIMS高能脉冲为例,相较于直流电源,离化率更高,沉积的薄膜附着力更好,从上图可以看出,直流电源沉积出的为柱状结构,而HiPIMS电源沉积出的为玻璃状结构,膜层更致密。
Melec的电源脉冲发生器主要分为研发领域使用的SIPP2000系列以及工业领域使用的SPIK系列,其中SIPP2000系列分为单极和双极两种,SPIK系列分为SPIK1000A、SPIK2000A和SPIK3000A三种。SPIK系列涵盖的功率范围可从0.5KW到30KW。
Melec推出的SPIK3000A基本性能参数如下:
项目 |
规格参数 |
直流电源功率输入 |
10KW,20KW,30KW |
直流电源电压输入 |
1000V |
直流电源电流输入 |
50A |
脉冲输出电压 |
1000V |
脉冲输出电流 |
1000A(峰值) |
认证 |
CE认证 |
Melec电源脉冲发生器,除了单独产生脉冲之外,也可进行叠加使用,根据不同的应用以及不同的基材等,进行各种不同的叠加。
对于单靶或者单弧源来说,可以进行直流和单极HiPIMS高能脉冲、直流和单极脉冲以及单极脉冲和单极HiPIMS高能脉冲叠加,实现共溅射的功能。
直流和单极HiPIMS高能脉冲叠加
对于双靶来说,可以进行更多种的叠加,比如双极脉冲和双极HiPIMS高能脉冲、单极脉冲和双极HiPIMS高能脉冲(Bias偏压同步)、双极HiPIMS高能脉冲/双极脉冲和单极脉冲(Bias偏压同步)、单极HiPIMS高能脉冲/双极脉冲和单极脉冲(Bias偏压同步)、双极HiPIMS高能脉冲和RF(Bias偏压同步)以及单极HiPIMS高能脉冲和RF(Bias偏压同步)叠加等。